R2041 光刻胶系列专利文献集

R2041 光刻胶系列专利文献集

收录光刻胶相关专利技术68项：
1、PS版和光刻胶用的合成树脂及制备方法；
2、包含添加剂用于深UV辐射的光刻胶组合物；
3、包括缩醛和缩酮作为溶剂的光刻胶组合物；
4、彩色显象管荧光屏的光刻胶组合物；
5、产生粒子少的光刻胶组合物的制造方法；
6、从光刻胶和剥离液中回收有机化合物的方法；
7、带有环状缩酮保护基的含硅光刻胶体系；
8、氟化的硅-聚合物和包含该聚合物的光刻胶；
9、负性光刻胶树脂涂布液及其制备方法；
10、负性深紫外光刻胶；
11、负作用化学放大的光刻胶组合物；
12、负作用水性光刻胶组合物；
13、改善光刻胶耐蚀刻性的方法；
14、高分辨率映像装置用光刻胶；
15、光刻胶剥离除去方法及装置；
16、光刻胶剥离剂组合物；
17、光刻胶灵敏度的评价方法和光刻胶的制造方法；
18、光刻胶树脂,化学增强光刻胶组合物及图样的形成方法；
19、光刻胶修整方法；
20、光刻胶用抗反射组合物；
21、光刻胶正胶组合物；
22、光刻胶组合物；
23、光敏聚合物及含有该聚合物的化学扩增的光刻胶组合物；
24、含2,4-二硝基-1-萘酚的正性光刻胶组合物；
25、含硅偶联剂的共聚物成膜树脂及其193nm光刻胶；
26、含有氨基丙烯酸酯中和的粘合剂的带水光刻胶；
27、含有含多个酸不稳定部分的侧基团的聚合物的光刻胶组合物；
28、含脂环族溶解抑制剂的正光刻胶组合物；
29、厚膜光刻胶的低温金属化制备方法；
30、化学放大型正光刻胶组合物；
31、化学放大型正光刻胶组合物，(甲基)丙烯酸酯衍生物及其制备方法；
32、化学放大型正光刻胶组合物及其树脂；
33、化学增强的光刻胶；
34、化学增强光刻胶及一种光刻胶组合物；
35、化学增强型光刻胶组合物；
36、化学增强型正光刻胶组合物；
37、化学增强型正光刻胶组合物和锍盐；
38、磺酸盐和光刻胶组合物；
39、集成电路制造技术中可消除光刻中光刻胶毒化的工艺；
40、具有联合增稠剂的带水光刻胶；
41、聚合物掺混物及其在用于微细光刻的光刻胶组合物中的应用；
42、聚合物和含有该聚合物的光刻胶；
43、纳米压印光刻胶；
44、适用作光刻胶的可紫外线固化的粉末；
45、水溶性负性光刻胶组合物；
46、稳定的离聚物光刻胶乳状液及其制备方法和应用；
47、稀释剂组分及用其除去光刻胶的方法；
48、稀土顺式聚异戊二烯负型光刻原胶的制备；
49、一种干膜光刻胶50、一种化学放大型正光刻胶组合物；
51、一种化学增强型正光刻胶组合物；
52、阴极射线管的改良光刻胶及其制备方法；
53、用于剥离光刻胶的组合物；
54、用于深紫外光刻术的光刻胶组合物；
55、用于深紫外线的光刻胶组合物及其方法；
56、用于深紫外线光刻胶的防反射组合物；
57、用于微电子的无胺光刻胶粘接促进剂；
58、用于微型平板印刷术的多环含氟聚合物及光刻胶；
59、用于液晶设备的正型光刻胶组合物；
60、用于正性光刻胶的混合溶剂体系；
61、有机碱催化的无显影气相光刻胶；
62、正向作用的光刻胶；
63、正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法；
64、正型光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法；
65、正性光刻胶；
66、正性光刻胶的制作方法；
67、正性光刻胶组合物的热处理方法；
68、制造光活性化合物以及由其制造光刻胶的方法 收录光刻胶相关期刊文献60项
1、1μm CMOS电路研制中光刻胶反向腐蚀工艺研究；
2、193nm光刻胶的研制；
3、248nm深紫外光刻胶；
4、AZ4903光刻胶在微电机定子绕组制作中的应用；
5、AZ5214光刻胶及像反转特性的实验研究；
6、AZ9260光刻胶制作连续非球面微透镜阵列的研究；
7、BP_212正性光刻胶的抗蚀特性研究；
8、KrF准分子激光直接消融深层光刻紫外光刻胶实验研究；
9、OMR_85光刻胶的研究与应用；
10、RZJ_390光刻胶在VFD生产中的质量控制；
11、SU_8胶光刻工艺参数优化研究；
12、SU_8胶光刻工艺研究；
13、ULSI用193nm光刻胶的研究进展；
14、彩色液晶显示与颜料分散光刻胶；
15、常压射频低温冷等离子体清洗光刻胶研究；
16、常压射频激励低温冷等离子体刻蚀光刻胶；
17、超净高纯试剂与紫外光刻胶；
18、叠层光刻胶牺牲层工艺研究；
19、反应离子束刻蚀应用于光刻胶灰化技术研究；
20、非相干光记录二维真假彩色全息图光刻胶母版技术；
21、负性光刻胶刻蚀工艺研究；
22、高灵敏度的酯型光敏聚酰亚胺；
23、高性能大面积光刻胶版制备技术；
24、高支化碱溶性丙烯酸化聚酯光刻胶的性能及成像性研究；
25、高质量光刻胶微小透镜阵列的制作；
26、光刻胶等效扩散长度对013μm工艺窗口的影响；
27、光刻胶烘培特性研究；
28、光刻胶刻蚀过程模拟的元胞自动机算法研究；
29、光刻胶图形塌陷机理；
30、光刻胶用环化聚异戊二烯的研制；
31、光刻胶在LCD生产中的应用；
32、光敏聚酰亚胺光刻工艺研究；
33、光敏聚酰亚胺光刻胶成膜技术探讨；
34、光敏聚酰亚胺光刻胶及光刻工艺的研究；
35、化学放大光刻胶高分子材料研究进展；
36、化学放大胶在电子束光刻技术中的应用；
37、环氧基紫外负性光刻胶的特性应用工艺与展望；
38、基于光刻胶回流特性的平面化工艺；
39、激光光盘信息记录光刻胶的合成与感光过程的研究；
40、吉化研制成功稀土异戊光刻原胶；
41、聚硅烷用作紫外亚微米光刻胶；
42、聚乙烯醇肉桂酸酯光刻胶的合成；
43、离子束刻蚀过程中光刻胶收缩行为研究；
44、利用紫外光刻技术进行SU8胶的研究；
45、连续微光学元件在光刻胶上的面形控制；
46、模压全息图的衍射效率与光刻胶母版沟纹深度的关系；
47、耐高温光刻胶光栅模板的制作与转移技术及其应用；
48、浅谈光刻胶在集成电路制造中的应用性能；
49、去除光刻胶的新干法工艺；
50、苏州瑞红正性光刻胶领先国际水平；
51、微电子工业用光刻胶；
52、微透镜制作中光刻胶与衬底匹配行为的研究；
53、微制造光刻工艺中光刻胶性能的比较；
54、我国超净高纯试剂和光刻胶的现状与发展；
55、一种荧光粉光刻胶通过技术鉴定；
56、用接触式显微术方法研究软X射线光刻胶特性；
57、用于光刻技术的新型化学放大光刻胶；
58、在5m～3聚合釜中试生产稀土异戊光刻原胶；
59、正性光刻胶的噪声抑制；
60、自动滴胶的新型光刻胶泵

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